【转载】山西大学/约翰霍普金斯大学/德雷克塞尔大学JACS:纳米多孔合金电催化稳定性机理研究大突破
近日,山西大学李亚伟团队联合美国霍普金斯大学、德雷克赛尔大学科研团队,首次通过原位实验(原位加热 TEM、IL-TEM、原位 ICP-MS)与原子级动力学蒙特卡洛(kMC)模拟结合,拆解出纳米结构电催化剂(NACs)电化学粗化的两个并发原子级机制:一是氧化物种还原过程中的 Pt 溶解 / 再沉积,二是低配位原子的快速表面扩散。
明确 Ir 和 Au 掺杂对电化学粗化的差异化调控作用:Ir 因低表面迁移率(低于 Pt),可钉扎台阶边缘等限速位点、抑制表面扩散,仅在静态电解质中减缓粗化;Au 通过提高相邻 Pt 原子的 “nobility”(降低亲氧性),减少 Pt 氧化及溶解 / 再沉积,在静态和搅拌电解质中均能稳定电化学活性表面积(ECSA)。
揭示 NACs 的曲折多孔结构对溶解 / 再沉积的促进作用: interconnected 网络增加阳离子与表面接触概率,减少其向本体电解质洗脱;而搅拌电解质会建立 Pt²⁺离子浓度梯度,增加 Pt 离子洗脱,加剧 ECSA 损失。
原位 ICP-MS 证实:Au 可使 Pt 溶解速率显著降低,且使 Pt 溶解起始电位正移;Ir 对 Pt 溶解的抑制效果弱于 Au;10000 次加速稳定性测试(AST)后,Au 掺杂样品的 Pt/Ni 损失量最少,Ir 掺杂次之,未掺杂样品最多。
电化学能源转换技术(如电解槽、燃料电池)是可再生碳中和能源体系的核心,但效率与寿命取决于阳极 / 阴极电催化剂。铂族金属(PGM)因能满足能量密度与效率要求,是当前主流催化剂,但其高成本与稀缺性需通过提升活性面积、降低质量载量解决。纳米结构催化剂(NACs,如纳米笼、多孔网络、锯齿状纳米线)因高比表面积(高于球形纳米颗粒),近十年创下 4-20 倍于工业标准 Pt/C 的比活性与质量活性,成为研究热点。然而,NACs 在 AST 中存在 8-40% 的 ECSA 损失,且 UPL越高,损失越严重。传统粗化机制(热驱动的体扩散、表面扩散)无法解释室温电解质中的显著粗化 —— 真空 / 电解质中 Pt 表面迁移率仅~10⁻²²/~10⁻¹⁸ cm²/s,远不足以驱动室温下的快速粗化。此外,NACs 的 ECSA 损失无明显颗粒间质量交换,与传统球形纳米颗粒的烧结 / 奥斯特瓦尔德熟化机制不同。因此,亟需揭示 NACs 电化学粗化的原子级机制,为设计高活性、高稳定性的下一代电催化剂提供理论支撑。
Figure 1:不同 UPL 下 NACs 的 ECSA 变化总结
呈现不同 UPL 下 AST 后,纳米结构(NACs)Pt 基电催化剂的 ECSA 变化数据,纳入文献数据(黑色方块)、传统 Pt/Vulcan 数据(空心圆)及本研究数据(绿色星号);实心圆代表 10000 次循环的 AST 方案,黑色三角形为 DOE 2030 年 ECSA 保留目标(90000 次循环)。证明NACs 的 ECSA 损失随 UPL 升高而加剧,且其 ECSA 损失机制与传统球形纳米颗粒催化剂(烧结 / 奥斯特瓦尔德熟化)存在本质差异。
Figure 2:np-NiPt 的表征与掺杂特性
A 图:TEM、HAADF-STEM 及 EELS mapping 证实纳米多孔 NiPt(np-NiPt)的多孔结构,且 Pt、Ni 元素分布均匀。B 图:明确表面掺杂流程 —— 先在 np-NiPt 表面欠电位沉积 Cu,再通过 galvanic displacement 分别沉积 Au 或 Ir。C 图:STEM-EDS 分析显示,np-NiPt+Au 和 np-NiPt+Ir 表面的 Au、Ir 掺杂量均约为 5 原子 %。D 图:还原电位与表面扩散率对比 —— 还原电位:Au³⁺/Au(1.52 V vs SHE)> Pt²⁺/Pt(1.188 V vs SHE)> Ir³⁺/Ir(1.0 V vs SHE);表面扩散率:Au > Pt > Ir。
Figure 3:热粗化行为的实验与模拟
A 图:原位加热 TEM(450℃,10 min)显示,np-NiPt 和 np-NiPt+Au 粗化明显(多孔结构变为实心颗粒),np-NiPt+Ir 形态无显著变化。B 图:实验(标记)与 kMC 模拟(色带)显示,450℃下 ECSA 随时间变化:np-NiPt+Ir 保留大量 ECSA,np-NiPt 和 np-NiPt+Au ECSA 损失相近;模拟色带上限为总表面积,下限为活性表面积(考虑晶面分布),实验 ECSA 介于两者之间。C 图:进一步证实 np-NiPt+Ir 热粗化被抑制,np-NiPt 和 np-NiPt+Au 粗化程度相似;kMC 模拟与实验趋势一致,且 111/100 晶面面积比随粗化时间变化符合表面扩散主导的热粗化规律。
Figure 4:电化学粗化的 IL-TEM 与 kMC 模拟
搅拌通过建立 Pt²⁺离子浓度梯度、增加 Pt 离子洗脱促进粗化;Au 的稳定作用不受搅拌影响,Ir 仅在静态电解质中有效(因 Ir 仅抑制表面扩散,搅拌下传质以溶解 / 再沉积为主)。
Figure 5:ECSA 保留率随 AST 循环次数的变化
溶解 / 再沉积是电化学粗化的关键机制;搅拌增加 Pt 离子洗脱,Au 通过抑制溶解 / 再沉积稳定 ECSA,Ir 仅抑制表面扩散(搅拌下传质非表面扩散主导,故 Ir 失效)。
Figure 6:Au 与 Ir 调控电化学粗化的机制
Au 掺杂通过两种途径抑制粗化 —— 一是降低相邻 Pt 原子的亲氧性,减少 Pt 氧化及后续溶解 / 再沉积频率;二是钝化低配位 Pt 位点,减少溶解位点。Ir 掺杂仅通过降低 Pt 原子表面迁移率(钉扎台阶边缘等限速位点),抑制表面扩散驱动的粗化;两者分别针对电化学粗化的两个核心机制发挥作用。
Figure 7:原位 ICP-MS 分析 Pt 溶解行为
A 图:CV 曲线及对应原位 Pt 溶解速率显示,Pt 薄膜表面 Au 覆盖度越高(0.32 ML、0.43 ML),Pt 溶解速率越低。B 图:对比证实 Au 覆盖可显著减少 Pt 溶解量。C 图:不同 UPL(1.0、1.2、1.5 V vs RHE)下,np-NiPt+Au 的 Pt 溶解速率最低,np-NiPt+Ir 次之,np-NiPt 最高。D 图(UPL=1.2 V 高分辨率数据):Au 使 Pt 溶解起始电位正移,且溶解速率显著低于 np-NiPt 和 np-NiPt+Ir;Ir 对 Pt 溶解的抑制效果弱于 Au,且不影响 Pt 溶解起始电位。
本研究通过 “原位实验(原位加热 TEM、IL-TEM、原位 ICP-MS)+ 原子级 kMC 模拟” 的跨尺度研究方法,实现三大核心突破:一是首次拆解出 NACs 电化学粗化的两个原子级机制 —— 氧化物种还原过程中的 Pt 溶解 / 再沉积、低配位原子的快速表面扩散,解决了传统热驱动机制无法解释室温电化学粗化的难题;二是明确 Ir(抑制表面扩散)和 Au(抑制溶解 / 再沉积)对电化学粗化的差异化调控机制,量化了两者对 ECSA 保留率、Pt 溶解速率的影响;三是揭示 NACs 曲折多孔结构对溶解 / 再沉积的促进作用,以及搅拌电解质(建立 Pt²⁺浓度梯度)对粗化的加剧效应,为理解 NACs 稳定性提供了结构 - 性能关联的关键依据。
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